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晶圆表面金属离子的去除曾是一个问题

发布时间:2016/6/17 20:51:18 访问次数:815

   晶圆表面金属离子的去除曾是一个问题。这些离子存在于化学品中,并且不溶于大多数的清洗和刻蚀液中。H12CA4850通过加入一种整合剂,如乙烯基二胺乙酸,使其与这些离子结合,从而阻止它们再次沉积到晶圆上。

   在最初的清洗配方的基础上,曾有过多种改进和变化。SC-1稀释液的比例为1∶⒈50(而不是1△∶5),SC―2的稀释液的比例为1△∶60(而不是1△∶6)。这些溶液被证明具有与比它们更浓的溶液配方同样的清洗效果。稀释液减少了化学品的使用和处理而具有成本优势。

   RCA湿法清洗取得成功的一个重要原因是超纯水和化学品的可用性。新的清洗方法,如现场化学品生成,比以前提供了更高级别的纯度,产生了更有效的清洗效应。RCA清洗生成大量的化学蒸气,为防止化学蒸气进入净化间,增加了净化间排放系统的负载。溶液的另一个问题是它具有随时间推移改变溶液组分的效应。

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   在最初的清洗配方的基础上,曾有过多种改进和变化。SC-1稀释液的比例为1∶⒈50(而不是1△∶5),SC―2的稀释液的比例为1△∶60(而不是1△∶6)。这些溶液被证明具有与比它们更浓的溶液配方同样的清洗效果。稀释液减少了化学品的使用和处理而具有成本优势。

   RCA湿法清洗取得成功的一个重要原因是超纯水和化学品的可用性。新的清洗方法,如现场化学品生成,比以前提供了更高级别的纯度,产生了更有效的清洗效应。RCA清洗生成大量的化学蒸气,为防止化学蒸气进入净化间,增加了净化间排放系统的负载。溶液的另一个问题是它具有随时间推移改变溶液组分的效应。

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