2号标准清洗液(sC-2)去除碱金属离子、氢氧根及复杂的残余金属。它会在晶圆表面留下一层保护性的氧化物。为了去除硅表面的金属(和某些有机物)污, H03CF5必须使用高氧化能力和低pH值的溶液,在这种情况下,金属成为离子并溶于 具有强烈氧化效应的酸液中。清洗液就能从金属和有机物沾污中俘获电子并氧化它们,电离的金属溶于溶液中,而有机杂质被分解。化学溶液的原始浓度及其稀释的混合液均列在表3,13中。

   改进的RCA清洗。多年来,RCA的配方经久不衰,至今仍是大多数炉前清洗的基本清洗工艺。随着工业清洗的需求,化学品的纯度也在不断地进行改进。根据不同的应用,SC-1和sC―2前后顺序也可颠倒。如果晶圆表面不允许有氧化物存在,则需加入氢氟酸清洗这一步。它可以放在sC―1和sC-2之前进行,或者在两者之间,或者在RCA清洗之后。