半导体制造中所使用的液态化 OP2177ARMZ-R2学品必须不能含有沾污,通过使用过滤器来保证化学品的纯度。不同的过滤器分类如下:

   颗粒过滤(P・article Ⅱl“ation):用于过滤大约1.5um以上颗粒;

   微过滤(Micro丘ltration):用于去除液体中0.1~1.5um范围颗粒的膜过滤;

   超过滤(U1tra丘ltration):用于去除0.005~0.1um尺寸大分子的加压膜过滤;

   反渗透(RcⅤcrsc Osmosis):也称为超级过滤(HypCr丘ltration),采用加压的方式,使得液体通过一层半渗透膜,过滤掉至接近0.005um的颗粒和金属离子。

   膜过滤使用聚合物薄膜或带有细小渗透孔的陶瓷作为过滤器媒介,用于工艺设备之前提供最后的过滤。

   过滤器应不对气体流量产生显著的压力衰减,不引入二次沾污并化学品相容。对于ULsI工艺中使用的液体过滤器,对于0.2um以上颗粒的过滤效率达到∞,⑼”99%(称为“9个9效率”)。