在第9章中，ADS7870EA各向异性刻蚀的概念用来说明形成竖直（或接近竖直）刻蚀侧墙的一种方法。当刻蚀层实际上是多层不同材料叠在一起时，该问题变得更复杂[见图10. 40(a)]。使用选择性比较差的刻蚀剂会形成宽度不同的层面[见图10. 40(b)]。多层刻蚀轮廓控制必须综合考虑刻蚀剂化学成分、功率水平、系统压力和设计。

   学习完本章后，你应该能够：

   1．描述4种与曝光有关的效应，这4种效应都会引起光刻图形畸变。

   2．描绘双层光刻胶工艺的截面流程图。

   3．描绘双大马士革制程工艺的截面流程图。

   4．列举两种平坦化技术。

   5．说出图形反转工艺的优点。

   6．描述抗反射涂层、反差增强涂层和光刻胶染色剂是怎样改进分辨率的。

   7．识别光刻掩模版的薄膜部分并讲出它对光刻工艺的贡献。