GST是一种合金材料,Ge(锗)、Sb(锑)和Te(碲)分别属于第四族、第五族和第六族元素,其得失电子的能力各不相同,表现为在氧化剂中的被氧化程度各不相同,Ge(锗)和Sb(锑)较容易被氧化而形成相应的氧化物,Te(碲)较难被氧化形成氧化物,在研磨中的副产品仍为金属态。TB62726AFG

   GST CMP的挑战主要有以下几个方面:

   (1）研磨残留:Tc(碲)较难被氧化形成氧化物,在研磨中的副产物仍为金属态,它会重新粘回到GST表面形成残留,导致短路而失效。

   (2)介电层损失:尽管GST CMP的研磨浆料本身对介电层的研磨速率很低((100A/min),但在研磨产牛的副产物(Ge、sb、Te的氧化物)出会成为研磨粒子,对介电层有一定的研磨速度,从而导致介电层损失。

   研磨液的研制是现阶段GsT CMP技术开发的重要方面之一。研磨液的生产厂家试图在研磨液中加入一些成分,加速Te(碲)的被氧化速率或是减慢Ge(锗)和Sb(锑)的被氧化速率,从而解决研磨残留的问题: