要实现良好的衬底温度均匀性
发布时间:2016/7/28 21:45:10 访问次数:529
要实现良好的衬底温度均匀性,这是获得均匀外延层的前提。衬底的温度均匀性是由基座的温度均匀性来保证的。A1109AS-H-8R2M为使基座温度分布均匀,可以采用多区加热丝设计,并配合采用旋转基座等技术设计,同时也改善反应气源的分布均匀性。当生长异质结构时,有时需要在不同温度下进行生长,这时不仅需要保持在不同温度下的温度均匀性不变,还需要基座的热惯量小,以满足快速改变温度的需要。
优化气流分布,从而弥补源材料因预反应及沿程耗尽所造成的问题,以便在整个反应腔内各个反应区域都能实现外延层均匀生长,提高反应气源的效率和薄膜沉积的均匀性。
要实现良好的衬底温度均匀性,这是获得均匀外延层的前提。衬底的温度均匀性是由基座的温度均匀性来保证的。A1109AS-H-8R2M为使基座温度分布均匀,可以采用多区加热丝设计,并配合采用旋转基座等技术设计,同时也改善反应气源的分布均匀性。当生长异质结构时,有时需要在不同温度下进行生长,这时不仅需要保持在不同温度下的温度均匀性不变,还需要基座的热惯量小,以满足快速改变温度的需要。
优化气流分布,从而弥补源材料因预反应及沿程耗尽所造成的问题,以便在整个反应腔内各个反应区域都能实现外延层均匀生长,提高反应气源的效率和薄膜沉积的均匀性。
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