膜厚不均匀。精度要TC54VC4202求不高时,厚度测量可用比色法、磨蚀法;精度要求高时,可用双光干涉法、电容一电压法、椭偏光法。

   S⒑2膜层的表面颜色一致,则说明膜厚均匀;若颜色有较明显的变化,则说明膜厚不均。⒏o膜的厚度不均匀会影响其杂质掩蔽的功能,绝缘性变差,而且在光刻腐蚀时容易造成局部沾污等。氧化炉内的氧气或水汽不均匀、炉温变化不定以及恒温区太短等都是造成膜厚不均匀的原因。想得到厚度均匀的氧化层,则要求氧化前做好硅片的处理,保证清洗质量和硅片表面质量,严格控制炉温,控制好水浴温度,必须有长且稳定的恒温区,对氧化气体的流量也要严格控制。

   表面质量:要求薄膜表面无斑点、裂纹、白雾、发花和针孔等缺陷。通常通过在聚光灯下目测或者镜检发现各种缺陷。表面斑点。斑点一般用肉眼无法看到,要通过显微镜观察。产生表面斑点的原因一般有:晶圆表面清洗不彻底,残留了一些杂质颗粒,这些杂质在高温下黏附在s⒑2膜的表面形成斑点:石英管在高温下工作时间过长,脱落的颗粒落在晶圆表面,出现斑点:晶圆清洗后水迹耒干、湿氧过程中有水滴落在晶圆上,都会使s⒑2膜的表面出现斑点。为了避免斑点的出现,要仔细清洁晶圆表面,清洗石英管,严格控制水温以及氧气的流量。