实际的离子注入发生在终端的靶室内。它包括扫描系统与装卸片机械装置。AD7004AR对靶室有几条很严格的要求，晶圆必须装载到靶室内和抽真空，晶圆必须逐一放到固定器上，注入结束后，晶圆被取下装入片架盒，从靶室取出。

   现在使用的注入晶圆表面的束流方式有批量式和单片式两种设计。批量式效率更高，但是对其维护和对准要求更高。对于批量式，晶圆被放置在一个圆盘}：，它可以面对束流转动，使其被扫描。多种运动增加了剂量的均匀性。要加工完一组晶圆，由于增加了装片、抽真空、注入和卸片的时间，单片式设计要求更多的时间。为了增加均匀性，也有可能是一个机械装置推动该盘在离子束前左、右运动。多重运动增加了剂量的均匀性。由于增加了装片、抽真空、注入和卸载的时间，单晶片的设计需要更多的时间来处理一组晶圆。，但单一晶圆系统需要倾斜，以避免束流穿过沟道到下面晶面，并避免束流被晶圆I已有结构的凸起形貌遮蔽。