步进式光刻机：虽然扫K9F1G08UOM描投影光刻机是在生产工作中超越接触式光刻机的一个重大飞跃，但它们仍有一些局限性，比如说与全局掩膜、图形失真，以及掩模版r：的尘埃和玻璃损坏造成的缺陷相关的对准和套准问题。

  下一步是直接把图像从掩模版上分步曝光到晶圆表面上（见图8. 47），它与制造掩模版的技术是相同的．j带有一个或几个芯片图形的放大掩模版被对准、曝光，然后步进( stepped)到下一个曝光场，重复( repeated)这样的过程。这种放大掩模版比全局掩模版的质量高，因此产生缺陷的数量就更小。由于每个芯片分别对准，使得套准和对准变得更好。分步的过程使更大直径的晶圆能够精确匹配。它的其他优点还有：由于每次曝光区域变小，以及对尘埃敏感性的减小，分辨率得以提高。有些步进式光刻机是1:1型的，就是掩模版上的图形尺寸与晶圆I二需要的图形尺寸相同。、其他的则采用为最终尺寸5—10倍的掩模版，它们被称为缩小步进光刻机( reduction stepper)。制造加大尺寸的放大掩模版更加容易，而且尘埃和玻璃的细小变形会在曝光过程中减小乃至消失（见图8.50）。一般来说，缩小倍数×5是较佳的。