第8章已针对图形分辨率和曝光光线波长的关系做了详细说明。一般来讲，NCP305LSQ09T1如果想要得到尺寸更小的图形，就需要使用波长更短的光源。然而，这将导致景深的缩短。在0.5 ym以下的工艺中，从I线到深紫外线，由于景深( DoF)的要求，我们不得不对系统做进一步改进，比如使用町变数值孔径的镜头、环形光源、离轴照明、相移掩模版等。还有，随着图形尺寸的变小和图形密度的增大，其他的一些光学效应也开始起作用。以下我们针对这些问题和解决方案做一些阐述。

   离轴光线

   将曝光光线从垂直轴移开( off-axis) - -些可以阻止在光刻胶引起驻波的光干涉现象。

    透镜问题和反射系统

   在光刻图形形状极端的情况下，通过透镜系统曝光光束成为一个问题，这个问题就是吸收。一个曝光系统应该传送特定的波长（或受控的一组波长）到光刻胶表面。透镜所用的材料能在要求的范围内吸收辐射，在193 nm以下这变成了严重的问题。氟化钙(CaFz)是一种在这个范围传送的材料，并期望应用在157 nm节蠃1。