对于传统的光学光刻，NCP305LSQ15T1使用一些技术从掩模版到晶圆改善图形保真度。一个衍射问题发生在当两个掩模图形非常接近时。在某一点，正常的衍射波开始接触叠加，导致该区域光刻胶不能正常曝光。两个衍射波混在一起是因为它们的相位相同。相位是一个描述波的名词，它与波峰、波谷的相对位置有关[见图10. 17(a)]。在图10. 17(a)中的波是同相的，而在图10. 17(b)中的波是异相的．，一个解决衍射叠加的办法是将其中一个透光部分用透明物质覆盖，而这一透明物质可以改变波的相位，从而达到克服衍射叠加的目的[见图10. 17(b)]，基于以上原理而产生的交互相移掩模版（或称交互孔径相移掩模版，AAPSM）就是将一层二氧化

硅膜淀积在掩模版／放大掩模版上，然后将其中一部分移去，形成交替图形。图形多为重复性阵列，比如存储器产品，交替盖住透光部分这一方法比较适用。

   另一种方法是相位移动涂层在掩模版／放大掩模版图形边缘的扩展使用。这一工艺同样要在掩模版上加涂二氧化硅层并完成其他所有掩模版制作工艺的步骤。这一方法有一些衍生方法，比如亚分辨率（图形外延）相移掩模版和镶边相位移动掩模版（见图10.18）．