涂胶工艺的目的就是在晶圆表面建立薄的、EL4583CSZ均匀的并且没有缺陷的光刻胶膜。

   这些好的质量说起来容易，却需要用精良设备和严格的工艺控制才能达到。一般来说，光刻胶膜厚从0.5~1.5斗m不等，而且它的均匀性必须要达到只有±0.01 ht,m(100 A)的误差。

   普通的光刻胶涂胶方法有3种方法：刷法、滚转方法和浸泡法。但是这3种方法中没有一种能够达到光刻胶工艺所要求的质量标准。在涂底胶的那一节中，我们简单地介绍旋转涂胶方法，这也就是我们普遍应用的涂胶方法。涂胶器有手动式、半自动式和全自动式。自动化程度不同，所应用的系统也会不同。在下文我们会有所介绍。然而，每个系统光刻胶膜的淀积确实是共同的。

   涂胶工艺被设计成防止或是降低晶圆外边缘部分光刻胶的堆起，也称为边缘珠子( edgebead)，这神堆起会在曝光和刻蚀过程中造成图形的畸变。