光刻工艺用于在晶圆表面和内部产生需要的图形和尺寸。将数字化图形转到晶圆上需要一砦加工步骤。SSL2101T在光刻制程中，准备光刻母版( reticle)q是其中的一个中间步骤。光刻母版是在玻璃或石英板的镀薄膜铬层上生成分层设计电路图的复制图[见图4.12(a)]。光刻母版可直接用于进行光刻，也可能被用来制造掩模版。掩模版也是在玻璃底板表层镀铬。在加工完成后，在掩模版表面会覆盖许多电路图形的副本[见图4.12(b)]。掩模版用于在整个晶圆表面形成图形。电子束曝光系统跳过光刻母版或掩模版，并直接在晶圆表面曝光。光刻母版和掩模版的制作过程将在第10章讲述。

   图4. 12(a)在玻璃模版上镀铬；(b)有相同图形的光刻母版

   光刻母版和掩模版由工厂单独的部门制造或者从外部供应商购买。每个电路类型都有自己分别酌光刻母版或掩模版。