位置:51电子网 » 企业新闻

bychip可替代IRF5803TRPBF

发布时间:2023/7/24 23:28:00 访问次数:50 发布企业:深圳市百域芯科技有限公司

bychip可替代IRF5803TRPBF导读

什么是场效应管?场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。由于它仅靠半导体中的多数载流子导电,又称单极型晶体管。它是利用控制输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件。

市面上常有的一般为N沟道和P沟道,详情参考右侧图片(P沟道耗尽型MOS管)。而P沟道常见的为低压mos管。


bychip可替代_<a href=IRF5803TRPBF" src="http://member.51dzw.com/CompanyFile/202107/2021071011340566566.jpg" />


bychip可替代

VGS(最大栅源电压) 栅极能够承受的最大电压,栅极是MOS管最薄弱的地方,设计的时候得注意一下,加载栅极的电压不能超过这个最大电压。

在P型半导体中,空穴为多子,自由电子为少子,主要靠空穴导电。 掺入的杂质越多,多子(空穴)的浓度就越高。P型半导体又称空穴型半导体,是以带正电的空穴导电为主的半导体。

MOS管全名为:金属 (Metal)—氧化物 (Oxide)—半导体 (Semiconductor)场效应晶体管。

注:MOS管输出特性的恒流区(饱和区),相当于三极管的放大区。VGS≥VGS(th),且VDS>VGS-VGS(th),MOS管进入恒流区:恒流区在输出特性曲线中间的位置,电流ID基本不随VDS变化,ID的大小主要决定于电压VGS,所以叫做恒流区,也叫饱和区,当MOS用来做放大电路时就是工作在恒流区(饱和区)。


bychip可替代_<a href=IRF5803TRPBF" src="http://member.51dzw.com/CompanyFile/202107/20210710113372847284.jpg" />


IRF540NSTRPBF

FDMC8878、FDN304PZ-NL、FDN340P-NL、FDS4559-NL、FDS4953-NL、FDS6875-NL、FDS8926A-NL、FDS8926A-NL、FDS9933-NL、FDS9936A-NL。

现在的小功率MOS管导通电阻一般在几十毫欧左右,几毫欧的也有。 MOS管 导通后都有导通电阻存在,这样电流就会在这个电阻上消耗能量,这部分消耗的能量叫做导通损耗。RDS(on)(漏源电阻) 导通时漏源间的最大阻抗,它决定了MOSFET导通时的消耗功率。这个值要尽可能的小,因为一旦阻值偏大,就会使得功耗变大。选择导通电阻小的MOS管会减小导通损耗。

MOS管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)是一种常用的半导体器件,广泛应用于各种电子设备中。MOS管是一种场效应管,其主要作用是在电路中实现信号放大、开关控制等功能。

在 MOS管中,半导体材料通常是硅。MOS管的基本原理是利用一个金属栅极、氧化物和半导体组成的结构来控制导体的电阻。

bychip可替代_<a href=IRF5803TRPBF" src="http://member.51dzw.com/CompanyFile/202107/2021071011340566566.jpg" />


由电子组成的电流从source通过channel流到drain。总的来说,只有在gate 对source电压V 超过阈值电压Vt时,才会有drain电流。这个channel就像一薄层短接drain和source的N型硅。

Channel形成时的电压被称为阈值电压Vt。掺杂极性的反转被称为inversion,反转的硅层叫做channel。随着GATE电压的持续不断升高,越来越多的电子在表面积累,channel变成了强反转。


文章来源:www.bychip.cn


相关新闻

相关型号