与表面钝化层相关的模式
发布时间:2012/4/28 20:01:02 访问次数:759
GaAs FET器件表面的钝化层对可LM311P靠性有较大的影响,例如高输出GaAsFET通电老化时直流特性和微波特性劣化就是典型的例子。人们对有和无钝化层的器件,给栅加反偏通电老化,结果各异。实验证明,用腐蚀方法处理特性劣化的器件表面后,发现特性有某种程度的恢复。备厂家不同钝化层的样品进行通电老化后的实验结果如表4. 25所示。
实验结果表明,尽管不同器件厂的制造工艺存在差别,但用SiN形成的钝化膜效果最好。器件特性的劣化机理和钝化效果,可以用和发光现象有关的光增值反应来解释。
另外,SiN的钝化效果,从通电老化后的结果,也可以看出高电场和电极金属层有关,其他有明显效果的现象还未发现。MESFET放大器的特性时间漂移和钝化膜的关系正在进行研究。
漏电流的漂移
对漂移现象,主要是衬底界面陷阱和表面吸附所致,对此种失效模式可采用表面钝化的方法将其消除。实验证明,漂移现象在FET的静态特性中和通常所说的滞后效应无关。
GaAs FET器件表面的钝化层对可LM311P靠性有较大的影响,例如高输出GaAsFET通电老化时直流特性和微波特性劣化就是典型的例子。人们对有和无钝化层的器件,给栅加反偏通电老化,结果各异。实验证明,用腐蚀方法处理特性劣化的器件表面后,发现特性有某种程度的恢复。备厂家不同钝化层的样品进行通电老化后的实验结果如表4. 25所示。
实验结果表明,尽管不同器件厂的制造工艺存在差别,但用SiN形成的钝化膜效果最好。器件特性的劣化机理和钝化效果,可以用和发光现象有关的光增值反应来解释。
另外,SiN的钝化效果,从通电老化后的结果,也可以看出高电场和电极金属层有关,其他有明显效果的现象还未发现。MESFET放大器的特性时间漂移和钝化膜的关系正在进行研究。
漏电流的漂移
对漂移现象,主要是衬底界面陷阱和表面吸附所致,对此种失效模式可采用表面钝化的方法将其消除。实验证明,漂移现象在FET的静态特性中和通常所说的滞后效应无关。
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