常用控制图的分类
发布时间:2017/11/19 17:13:00 访问次数:743
根据控制参数的不同可以分为八大类常规控制图,如表16,3所示(国标GB/T4091)。 HCF4099M013TR
根据使用过程中△序是否处于稳态,叉可以分为分析用控制图和控制用控制图:一道I序开始应用控制图时,几乎总不会恰巧处于稳态,也即总存在异。如果就以这种非稳态状态下的参数来建立控制图,控制图界限之间的间隔一定较宽,以这样的控制图来控制未来,将会导致错误的结论。因此,一开始,总需要将非稳态的过程调整到稳态,这就是分析用控制图的阶段。等到过程调整到稳态后,才能延长控制图的控制线作为控制用控制图,这就是控制用控制图的阶段。
分析用控制图阶段主要解决两个问题:①所分析的过程是否处于统计控制状态;②该过程的过程能力指数Cヵ是否满足要求。当上述问题解决之后,即进人控制用控制图阶段,出现点子出界或非随机排列时需要查找原囚、改正之后才能继续生产.
根据控制参数的不同可以分为八大类常规控制图,如表16,3所示(国标GB/T4091)。 HCF4099M013TR
根据使用过程中△序是否处于稳态,叉可以分为分析用控制图和控制用控制图:一道I序开始应用控制图时,几乎总不会恰巧处于稳态,也即总存在异。如果就以这种非稳态状态下的参数来建立控制图,控制图界限之间的间隔一定较宽,以这样的控制图来控制未来,将会导致错误的结论。因此,一开始,总需要将非稳态的过程调整到稳态,这就是分析用控制图的阶段。等到过程调整到稳态后,才能延长控制图的控制线作为控制用控制图,这就是控制用控制图的阶段。
分析用控制图阶段主要解决两个问题:①所分析的过程是否处于统计控制状态;②该过程的过程能力指数Cヵ是否满足要求。当上述问题解决之后,即进人控制用控制图阶段,出现点子出界或非随机排列时需要查找原囚、改正之后才能继续生产.
上一篇:国标规定的8种判异规则
热门点击
- 扫描电镜的分辨率
- Cu CMP产生的缺陷
- 使用共金贴片工艺的示意图
- 俄歇电子
- 热点检测失效定位
- 先进工艺对Cu cMP的挑战
- 关键区域(criticaI area)简介
- 相位衬度
- 应力记忆技术的刻蚀
- 具有高MEEF的图形会减少全芯片的工艺窗口
推荐技术资料
- 自制经典的1875功放
- 平时我也经常逛一些音响DIY论坛,发现有很多人喜欢LM... [详细]