掩膜版三维尺寸效应
发布时间:2017/10/29 13:56:20 访问次数:901
前面讲到的仿真也好,空间像计算也好,都是假设了掩膜版是一块没有厚度的空间滤波器, V7233/2或者薄掩膜版近似(Thin Mask Approximation,TMA)。当掩膜版尺寸小到同波长可以比拟时,光波会受到掩膜版图形边缘的散射,其透射效率会明显降低。早期的研究可以追溯到⒛世纪90年代初,美国加州伯克利大学的黄华杰(Alfred Wong)同他的合作者发表的有关掩膜版表面的高低形貌对光刻的影响Ⅱ⒒。近年来,由于掩膜版尺寸越来越小,掩膜版的三维尺寸效应越发引起人们注意。安德烈・埃赫德曼(Andreas Erdmann)研究发现,
式(7迮9)所表示的光学衍射级之间的角度正弦值不随入射角的变化而变化的近似也不冉精确。具体的论述请参考文献。
前面讲到的仿真也好,空间像计算也好,都是假设了掩膜版是一块没有厚度的空间滤波器, V7233/2或者薄掩膜版近似(Thin Mask Approximation,TMA)。当掩膜版尺寸小到同波长可以比拟时,光波会受到掩膜版图形边缘的散射,其透射效率会明显降低。早期的研究可以追溯到⒛世纪90年代初,美国加州伯克利大学的黄华杰(Alfred Wong)同他的合作者发表的有关掩膜版表面的高低形貌对光刻的影响Ⅱ⒒。近年来,由于掩膜版尺寸越来越小,掩膜版的三维尺寸效应越发引起人们注意。安德烈・埃赫德曼(Andreas Erdmann)研究发现,
式(7迮9)所表示的光学衍射级之间的角度正弦值不随入射角的变化而变化的近似也不冉精确。具体的论述请参考文献。
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