一台光刻机可分为几大系统:硅片输运分系统(wafer hndlcr su⒍wstem)、硅片平台V80102MS02Q (PB)分系统(w盯er鼓age su⒈wstem)、掩膜版输运分系统(rctide l△alldkr sub-system)、系统测量与校正分系统(cdibraoon md metrology sub-wstem)、成像分系统(imaglng sub―wstem)、光源分系统(light source sub system)以及电气(clectric)、厂区通信(fab communication)、纯水(purihedwafer)、污染和温度控制(contamination and temperaturc∞ntrol)等。

   硅片输运分系统

   硅片输运分系统的任务是将轨道机传递来的硅片准确无误地按照一定的角度和位置放预对准平台(pre alignment stagc)内进行预对准(有的光刻机甚至开始对硅片进行温度调整),预对准完成后.由机械手将硅片按照预定的位置放在硅片平台上。这时,硅片在硅片平

台上相对对准系统的位置精度一般小于15um。当硅片完成曝光,再由硅片输运分系统将其输送到光刻机和轨道机的接口处,等待轨道机的机械手将其取走。