薄层电阻测试结构的形状和测试方法
发布时间:2017/6/1 20:16:50 访问次数:565
随着微电子工业的发展,要求把薄层电阻测试结构做得尽可能小。为此发展PAL20L8ACNS了各种形状的薄层电阻测试结构,主要是各种方形十字结构。常用的有偏移方形十字结构(如图135所示)、大正(Gr∝k)十字形结构(如图136所示)和小正十字形结构(如图137所示)。其中正十字形结构从工艺角度看可做得很小。
这些结构本身可以做得很小。但接触处无法符合Ⅵ)P结构所要求的点接触。它们和ˇ0P结构的偏离,使测量值和实际值不一致。经计算,设计正十字形测试结构时,只要臂长大于臂宽,其误差即可小于0。l%。这种测试结构是一种极好的VDP结构,允许测量很小区域的薄层电阻,其宽度仅受制造I艺的限制。
随着微电子工业的发展,要求把薄层电阻测试结构做得尽可能小。为此发展PAL20L8ACNS了各种形状的薄层电阻测试结构,主要是各种方形十字结构。常用的有偏移方形十字结构(如图135所示)、大正(Gr∝k)十字形结构(如图136所示)和小正十字形结构(如图137所示)。其中正十字形结构从工艺角度看可做得很小。
这些结构本身可以做得很小。但接触处无法符合Ⅵ)P结构所要求的点接触。它们和ˇ0P结构的偏离,使测量值和实际值不一致。经计算,设计正十字形测试结构时,只要臂长大于臂宽,其误差即可小于0。l%。这种测试结构是一种极好的VDP结构,允许测量很小区域的薄层电阻,其宽度仅受制造I艺的限制。
相关技术资料- 6-1薄层电阻测试结构的形状和测试方法
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