真空蒸镀设备有多种类型,不同工艺方法采用的设各也有所不同。而且,ON4986随着工艺技术的发展,蒸镀设备的发展也非常迅速。尽管如此,所有蒸镀设备都由以下4部分组成:真空室、真空系统、监测系统及控制台。图811所示是真空蒸镀系统示意图。

   当前常用蒸镀系统的主要组成部分如下。

   真空室

   真空室是蒸镀系统的核心部分,主要是为蒸发过程提供真空环境,由金属钟罩和平台构成,其极限真空度应在104Pa以上。真空室内主要有源加热器、挡板、衬底支架及其控温装置等。另外,监测系统的探头(如膜厚检测装置等)也在真空室内。

   源加热器是为源提供能量使其蒸发的装置。早期使用电阻加热器,随着技术的进步出现了电感加热器、电子束加热器和激光加热器等。通常蒸镀系统中都有多个加热器,这样可以在不打开高真空

室的情况下就顺次或同时蒸发多种不同的源材料。

   流的快门。为获得纯净的镀膜,应在源蒸发数秒之后再打开挡板,而在停止源蒸发数秒之前就关断挡板。

   衬底支架及其控温装置是用来摆放衬底硅片的支架,它有转动功能,以获得厚度均匀的薄膜;控温装置能为衬底加热、控温,衬底温度通常控制在几十至几百摄氏度范围。