分析测量电阻率误差的来源
发布时间:2017/6/3 22:44:30 访问次数:2745
(l)分析测量电阻率误差的来源。
(2)如果只用两根探针既作为电流探针又作为电压探针,这样能否对样品进行较为准确的坝量?为什么? TA7658AP
硅片清洗
在微电子器件芯片生产中,几乎每道工序(指单项工艺)之前都要先进行清洗,清洗好坏对器件性能影响很大,处理不当,可导致器件性能低劣,稳定性和可靠性差,甚至全部报废。因此,清洗工序是
很重要的工艺步骤。一次氧化前的清洗是硅片的初次清洗,先分析硅片前期加工特点和运输时可能引人的有机、无机污染物。如硅片表面可能有封蜡、有机磨料、氧化物磨料、灰尘等。因此,一次清洗应去除表面封蜡等油脂和磨料等无机物杂质。
(l)分析测量电阻率误差的来源。
(2)如果只用两根探针既作为电流探针又作为电压探针,这样能否对样品进行较为准确的坝量?为什么? TA7658AP
硅片清洗
在微电子器件芯片生产中,几乎每道工序(指单项工艺)之前都要先进行清洗,清洗好坏对器件性能影响很大,处理不当,可导致器件性能低劣,稳定性和可靠性差,甚至全部报废。因此,清洗工序是
很重要的工艺步骤。一次氧化前的清洗是硅片的初次清洗,先分析硅片前期加工特点和运输时可能引人的有机、无机污染物。如硅片表面可能有封蜡、有机磨料、氧化物磨料、灰尘等。因此,一次清洗应去除表面封蜡等油脂和磨料等无机物杂质。
相关技术资料- 6-3分析测量电阻率误差的来源
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