硫酸：一种常见的清洗溶液是热硫酸添加氧化剂。它也是一种通常的光刻胶去除剂（见第8章）． RT9166A-50GX在90℃~ 125℃的范围中，碗酸是一种非常有效的清洗剂。在这样的温度下，它可以去除晶圆表面大多数无机残留物和颗粒。添加到硫酸中的氧化剂用来去除含碳的残留物，化学反应将碳转化成二氧化碳，后者以气体的形式离开反应槽：

   C+ 02 -bC02（气体）

   通常使用的氧化剂是过氧化氢( H202)或臭氧(0，)．，为r清洗和剥离，臭氧也被直接用于去离子水中。

   硫酸和过氧化氨：硫酸和过氧化氢混合制成一种常见的清洗液，用于各个工艺过程之前，尤其是炉工艺之前晶圆的清洗。它也可用做光刻操作中光刻胶的去除剂。在业内，这种配方有多种命名，包括C arro酸和Piranha刻蚀（Piranha是一种非洲的食人鱼）。，后者说明r这种溶液的危险性和有效性。

   一种手动的方法是在盛有常温的硫酸容器中加入30%（体积）的过氧化氢。在这一比例下，发生大量的放热反应，使容器的温度迅速升到了110℃~ 130℃的范围，，随着时间的推移，反应逐渐变慢，反应池的温度也降到有效范围之内。这时，往反应池中添加额外的过氧化氢或者不再添加i，往反应池中不断添加最终会导致清洗效率降低。这是因为过氧化氢转化水，从而使硫酸稀释。

   在自动的系统中，硫酸被加热到有效清洗的温度范围内。在清洗每一批晶圆前，再加入少量(50~100 mL)酌过氧化氢。这种方法保证清洁池处于合理的温度下，同时，由过氧化氢产生的水町通过气化离开溶液。基于经济和工艺控制因素的考虑，一般选用加热硫酸这一方法。这种方法也使两种化学物质的混合比较容易自动实现。

   臭氧：氧化添加剂的作用是给溶液提供额外的氧。有些公司将臭氧(()，)的气源直接通人硫酸的容器。臭氧和去离子水混合是一种去除轻微有机物污染的方法。典型的’1j艺是将1～2 ppm的臭氧通入去离子水中，在室温下持续10分钟34。