小岛,是指在应该将氧化层刻蚀干净的扩散窗口内,还留有没有刻蚀干净的氧化层局部区域,它HAT3018RJ-EL-E的形状不规则,很像“岛屿”,尺寸一般比针孔大些,习惯上称这些氧化层“岛屿”为小岛。小岛的存在,使扩散区域的某些局部点因杂质扩散受到阻碍而形成异常区。它使器件击穿特性变坏,漏电流增大,甚至极间穿通。它产生的原因如下。

   ①掩模板上的针孔或损伤,在曝光时形成漏光点,使该处的光刻胶膜感光交联,保护了氧化层不被腐蚀,形成小岛。

   ②曝光过度,或光刻胶存放时问过长,性能失效,使局部区域光刻胶显影不净,仍留有观察不到的光刻胶膜。其在腐蚀时起阻碍作用,引起该处氧化层腐蚀不完全而形成“小岛”。

   ③氧化层表面有局部耐腐蚀的物质,如硼硅玻璃等。

   ④腐蚀液中存在阻碍腐蚀作用的脏物。

   消除光刻缺陷的方法,主要是针对上述可能的原因,找出切实可行的途径,通过实验求得解决。此外,还可采用等离子腐蚀代替湿式化学腐蚀,以克服浮胶和钻蚀;采用二次涂胶,或在蒸铝前用低温淀积法,在⒊O2表面再淀积一层⒏O2,换版套刻减少针孔,以及采用两刻蚀的方法,消除或减少由于掩膜不好所产生的“小岛”等。