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   酞菁类金属配合物

   酞菁类金属配合物(其化学结构见图3,29)由于具有较大的共轭平面和较高的热稳定性,在场效应晶体管的研究领域得到了很多关注。早在⒛世纪60年代, 酉太菁铜(copper phthalocyanine, CuPc)就被应用于场效应晶体管,是场效应晶体管中最早被应用的有机材料。

   酞菁金属配合物多为盘状分子,在非晶表面易 图3.29 酞菁类金属配合物的化学结构 图3,30 酞菁锌(a,和p六联苯(b)的分子结构;⑹在⒏02衬底上的2nm的p-6P;(d)在2nm的p-6P上3nm的ZnPc;【e)在2nm的p-6P上30nm的znPc;⑴在si02衬底上的30nm的ZnPc。显而易见,在pˉm表面生长ZnPc薄膜比在⒐o衬底上生长ZnPc薄膜的有序程度显著提高囵 形成针状、无序的多晶结构。因此该类材料的场效应迁移率通常都低于并五苯和噻吩齐聚物。例如,通过物理气相传输形成的酞菁铜单晶的场效应迁移率为1cm2/(V・s严1〕;在经过表面修饰的绝缘层上通过真空沉积的酞菁锌薄膜,由于可以形成比较有序的分子排布,如图3.30所示阝纠,其场效应迁移率可以达到0,32cm2/(V・Θ。场效应迁移率为0.⒆cm2/(V・θ的高度有序的酞菁铜薄膜见诸报道。