掩膜版数据有以下集中格式:具有等级分别(hierarchical)的GDSII,最早由美国通用电气的Calma部门开发,现在法律归属权由Cadence设计系统公司所有。UC2853D在掩膜版扫描曝光机上, UC2853D的使用不方便,机器希望连续和“平坦”的数据流。()DSII具有等级分别,重复的数据在存储上只有一个非重复的单元,虽然节省空间,但是对于掩膜版光刻机来讲需要增加几何和逻辑计算时闸。所以,等级分别必须去掉。不仅如此.设计图样当中的任意大小多边形(pol蹭ons)也必须分解为一些原始的图形・如长方形和工角形。最终,将平坦化的掩膜版数据再分解为光刻头的分区的数据流,叫做“分解”(fracturing)。

   电子束曝光的优点是分辨率较高,当前先进的曝光机使用的电压为50kV。但是,由于高能电子在掩膜版上的散射,会再次将掩膜版表面的光刻胶曝光。造成所谓的邻近效应(proximity effecO。在有邻近效应的掩膜版光刻I艺当中,会出现如图7,86所示的现象。解决邻近效应的方法有很多,如使用补偿曝光方式,在有邻近效应的地方对曝光进行补偿。

图7,86 掩膜版邻近效应在硅片上的曝光图形示意图