光学像差及其对光刻工艺窗口的影响
发布时间:2017/10/30 21:14:29 访问次数:564
光学像差及其对光刻工艺窗口的影响
像差是指各种空间像同理想之间的偏差,如图7.73所示,实际波面和理想波面(球面)的偏差。U2321B泽尼克(Zernike,1953年诺贝尔奖获得者)通过使用一组多项式,来描述各种像差(叉叫做泽尼克多项式),如表7.5所示。
图7.73 像差示意图
光学像差及其对光刻工艺窗口的影响
像差是指各种空间像同理想之间的偏差,如图7.73所示,实际波面和理想波面(球面)的偏差。U2321B泽尼克(Zernike,1953年诺贝尔奖获得者)通过使用一组多项式,来描述各种像差(叉叫做泽尼克多项式),如表7.5所示。
图7.73 像差示意图
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