污染和温度控制分系统主要是控制镜头内部的沾污和温度。镜头的洁净度和温度都是由气体净化系统控制的. U2321B气体净化系统中的气体起到热交换的作用。镜头在曝光时会被紫外激光不时地加热,而镜头的冷却是由包裹在镜头外壳上的水管完成的,外壳与镜片之间的热交换靠镜头内的沽净气体。一般,这种热平衡需要长达几个小时才能够达到。而镜头被加热(lcns lleating)会影响到线宽、套刻。在193nm光刻机,这种镜头被加热会造成焦距偏移(可达100nm),套刻非线性(如曝光区域内二阶D?、=阶D^畸变)偏移(可达10~20nm)。

   在隹产中,人们不可能等待几个小时以求得镜头达到热平衡。再者,这种镜头被加热会随着硅片曝光的硅片数量改变,慢慢地达到某种稳定状态(镜头的冷却作用抵消了镜头的加热作用的平衡点)。为此,工业界使用模型来模拟镜头被加热所产生的对光刻机参数的影响。而且,镜头被加热的现象会随着照明条件的不同而具有不同的特征。这是因为,不同的照明条件的光在光瞳的分布不同,会对镜头的不同区域进行加热,因而产生不同的镜头加热效应。阿斯麦公司的光刻机能够针对不同的层次建立不同的定标子程序(su卜recipc)来精确地补偿镜头加热所产生的光刻机工艺参数的变化。补偿使用镜头内部可移动的镜片,并通过镜头模型的计算来实现。