.离心喷淋式化学清洗抛光硅片
发布时间:2008/5/28 0:00:00 访问次数:590
系统内可按不同工艺编制贮存各种清洗工艺程序，常用工艺是：
fsi“a”工艺： spm+apm+dhf+hpm
fsi“b”工艺： spm+dhf+apm+hpm
fsi“c”工艺： dhf+apm+hpm
rca工艺： apm+hpm
spm .only工艺： spm
piranha hf工艺： spm+hf
上述工艺程序中：
spm=h2so4+h2o2 4：1 去有机杂质沾污
dhf=hf+d1.h2o (1-2%) 去原生氧化物，金属沾污
apm=nh4oh+ h2o2+d1.h2o 1
系统内可按不同工艺编制贮存各种清洗工艺程序，常用工艺是：
fsi“a”工艺： spm+apm+dhf+hpm
fsi“b”工艺： spm+dhf+apm+hpm
fsi“c”工艺： dhf+apm+hpm
rca工艺： apm+hpm
spm .only工艺： spm
piranha hf工艺： spm+hf
上述工艺程序中：
spm=h2so4+h2o2 4：1 去有机杂质沾污
dhf=hf+d1.h2o (1-2%) 去原生氧化物，金属沾污
apm=nh4oh+ h2o2+d1.h2o 1
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