对于化学放大的光刻胶,每一个光化学反应生成的光酸分子会以生成点为圆心,SC100722MVZ66扩散长度为半径的范围内进行去保护催化反应。一般来讲,对于193nm光刻胶,扩散长度在5~30nm范围内,扩散长度越长,在像对比度不变的情况下,图形粗糙程度越好。不过,在分辨极限附近,如45nm半节距附近,扩散长度的增加会导致空间像对比度的下降E25],而空间像对比度的下降也会导致图形粗糙程度的增加光刻胶的显影溶解率随光强的变化一般有着从很低的水平到很高的水平的阶跃式变化。如果这个阶跃式变化比较陡峭,会缩小所谓的“部分显影”区域,也就是阶跃变化中间的过渡区域,从而降低图形粗糙程度。当然,显影对比度(dissolution∞ntrast)太大,也会影响对焦深度。对于一些248nm和365nm的光刻胶,稍小的显影对比度一定程度上可以延伸对焦深度,如图7,36所示。