在空气中,最大的数值孔径为1.0.分辨率NA=1.o就是极限。早在19世纪末,人们OA1530-32-NOUT就发现,如果在显微镜物镜与生物样品的盖玻片上滴上一层油,显微镜的分辨率和对比度会大幅提高,其原理如图7。108所示。浸没式镜头由于同样品之闸没有经过空气,它能够以更大的角度在光刻胶中成像,也就等效于更大的数值孔径。

   非浸没式光刻屮 在光刻胶中   浸没式光刻中,住光刻胶中光

光线最大的、高为093(248和193都有)   前最高为I35图7108 浸没式光刻能够以更大的角度在光刻胶中成像 实践证明,水浸没式光刻机可以比非浸没式的光刻机提高狃%的焦深(在193nm时水的折射率为1.44)或者狃%的分辨率。如一台193nm的光刻机在0.93NA的情况下能做到的最小技术节点是55nm,但是一台193nm的浸没式光刻机在1.35NA的情况下可以做到32nm技术节点。

   不过,浸没式光刻也遇到一系列技术挑战,如缺陷,光刻胶表面光酸的浸析(leaching),换句话讲光酸会受到浸没式水的分子力而被从光刻胶中拉出来,一方面造成不完整显影的缺陷,另一方面造成镜头表面的腐蚀。又如由于水在硅片表面的蒸发,影响硅片的套刻精度。不过,这些问题都已经得到较好的解决,现在由于浸没式造成的缺陷已经降到10~⒛颗/硅片。甚至有些好的光刻机,缺陷率降到5颗/硅片。不过,在浸没式光刻中,偏振照明已经变得不可或缺。用得最多的是ⅪY照明条件和单一Y或者X方向的偏振态。