自从1958年9月12日杰克・基尔比(Jack s.Kilby)发明了世界第一块集成电路以来,集成电路已经走过50多年的高速发展历程,现在最小线宽已经在20~30nΠ1之间,进XC1765DPC20C入深亚微米范围。这其中关键技术之一的光刻技术也从最初使用类似照相设备中的放大镜头,到当今的浸没式1.35高数值孔径,具备白动控制和调整成像质量、直径达半米多、重达半吨的巨型镜头组。光刻的作用是将半导体电路的图形逐层印制硅片上,官的思想来源于历史悠久的印刷技术,所不同的是印刷通过使用墨水在纸上产生光反射率的变化来记录信息,而光刻则采用光勹光敏感物质的光化学反应来实现对比度的变化。

    印刷技术最早产生于中国汉代晚期。800多年后,经由宋朝的毕异革命性的改良,将固定的雕版印刷改造成活字印刷后便高速发展「2J。现在又发展出了激光照排排版技术。现在意义上的“光刻”(Photolithography)起始于1798年阿罗约・寨内菲德勒(Alois senefedler)的尝试。当他试图将自己的著作在德国慕尼黑出版时发现,如果使用油性铅笔将插图画在多孔的石灰石上,并且将没有画到的地方用水湿润,由于油性墨水与水的互相排斥,墨水只会被粘在用铅笔画过的地方。这种技术被叫做LithQgraphy,或者在石头上画图。Lithography是现代多熏套印的先导。