电子进人光刻胶之后发生的弹性散射,是由于电子受到核屏蔽电场作用而引起的方向偏转, SDCL1005C27NJTDF绝大多数情况下偏转角小于90°。其中有一些电子会损失1~1o meV能量,可以看成没有能量变化,所以可以归于弹性散射。在非弹性散射的情况下,散射角汐与人射电子的能量损失有关。通过对散射过程的模拟可以发现:对于一束能量相同、均匀平行的电子束(其能量为E),在进入到光刻胶层之后,如果电子的能量不是很高,那么散射是随机发生的,并且,每一次的碰撞与其先前的情况无关。一般来说,经过散射之后,电子束散开的距离约 为人射深度的一半,图1023所示是电子束散射效应计算示意图。

   目前,电子束曝光系统主要有以下几类:①改进的扫描电镜(⒏M);②高斯扫描系统;③成型束系统。改进的扫描电镜技术是从电子显微镜演变过来的,通过对电子束进行聚焦,从而在光刻胶上形成图形。由扫描电镜改进的电子束曝光系统,其分辨率取决于所选的SEM,由于其工作台的移动较、一般只适用于研究工作。

   高斯扫描系统通常有两种扫描方式:①光栅扫描系统,采用高速扫描方式对整个图形场进行扫描,利用快速束闸,实现选择性曝光;②矢量扫描方式,只对需要曝光的图形进行扫描,没有图形部分快速移动跳过。曝光时,首先将图形分割成场,台面在场间移动,每个场可以再分割成子场。该系统最大的特点是采用高精度激光控制台面,分辨率可以达到几纳米。在成型束系统中,需要在曝光前将图形分割成矩形,通过上下两直角光阑的约束形成矩形束。上光阑像通过束偏转投射到下光阑来改变矩形束的长和宽。成型束的最小分辨率一般大于100nm,但曝光效率高。