场发射阴极材料最为关键,其性能最直接决定了其他材料应具备的性能和应采取的制备工艺。AD2S1205WSTZ当前,场发射显示器制作方法的主流是应用Spindt型尖堆(材料有Mo,⒌等)作为冷阴极,采用三级管结构。这种方法需要大面积的精密机械加工,难度较大,成本昂贵,而且尖堆极易破坏,这直接影响到显示器的寿命。

   近年来,人们尝试采用薄膜型材料作为冷阴极,如图4-11所示,如多晶金刚石薄膜、非晶金刚石薄膜、类石墨以及碳纳米管等,可以在显示器件中采用二极管结构,特别是在无需制作大量的尖堆时,因而大大降低了制作难度。但是,薄膜型阴极的使用也给阳极荧光材料、隔离柱材料以及封装工艺提出了较高的要求。

   场发射显示器对阳极荧光材料的要求有:  

   在低电压激发下具有较高的发光效率、较高的亮度、较高的对比度、较高的色纯度(对彩色显示而言)以及较长的使用寿命。