场发射在空间上的均匀性和时间上的稳定性较差,这是由发射原理决定的。TPS73701DCQR在场发射中,为了产生有效发射,发射体表面电场非常强,不可能实现完全的空间电荷限制。发射电流不仅与阳极或栅极电压有关,而且与发射体参数有关。微尖场发射过程中受表面形态变化、离子轰击、气体吸附等多种因素的影响,会造成发射电流起伏不定。电场发射现象对尖端的表面状态非常敏感,发射电流一般不稳定,所以为了抑制电流,一般使用电阻层,如图4-5所示。在发射体和阴极之间插人串联电阻,当发射电流大时,电阻使电压降增大,使得作用在圆锥与栅极间的有效电压减小,抑制了发射电流。发射电流变小时,抑制效果则变弱。由于插人了电阻层,突发性的电流增大受到抑制,电流变小就可以防止发射体破坏。如果没有自动反馈控制,场发射阴极很难正常工作。