分辨率是指一个光学系统精确区分目标的能力。微图形加工的最小分辨率是指光刻系统所能分辨和加工的最小线条尺寸或机器能充分打印出的区域。PMBT3904分辨率是决定光刻系统最重要的指标,能分辨的线宽越小,分辨率越高。Apelattlre,NA),一般在0.16~0.9范围变化。

     由式(91)可知提高光刻分辨率的途径是:减小波长^(其中,光刻加工极限值^/2,即半波长的分辨率)、增加数值孔径(NΛ)、优化系统设计(分辨率增强技术)及减小乃1。表92为不同光源对应的技术参数,通过改变光源;波长R可从钅36nm减小到13,5nm,相应的

分辨率也从0.5um提高到18nm。图91所示为不同光源、不同NA条件下的曝光效果图。图92所示为通过改变掩模板形状减小分辨率系数乃l的效果最多可以减小30%。

   通过采用浸入式技术也可以有效地提高NA,图93所示为浸人式光刻的示意图。将液体置于主镜头和硅片之间,人射光线白然而然地就会穿透比空气折射率更高的液体,这种方式本身并没有提高特定投影图像的分辨率,但是它却能够赋予光刻机的镜头更高的数值孔径。其中″是透镜周围介质的折射系数,α是透镜的半接角。传统的“干法”光刻系统中,介质是折射系数为1的空气,则NA的理论最大值为1。采用具有更高折射系数的液体,浸人技术有可能使系统的NA>1。比如使用折射率为1.狃的去离子水后,NA的理论最大值即为1,狃。在193nm曝光系统中。如果液体不是水而是其他液体,且折射率比1.±+高时,则实际分辨率可以非常方便地再次提高,这也是浸人式光刻技术能很快普及的原因。