液态源扩散的杂质源为液态[如PC)C圮、BBr3、B(CH^03)等],由保护性气体携带进入扩散系统的扩散掺杂过程称为液态源扩散,液态源扩散系统如图518所示。

   携带气体(通常是氮气)通过源瓶,把杂质源蒸气带入扩散炉管内。液态源R1EX24064ASASOA一般都是杂质化合物,在高温下杂质化合物与硅反应释放出杂质原子;或者杂质化合物先分解产生杂质的氧化物,氧化物再与硅反应释放出杂质原子。进人扩散炉管内的气体除了携带杂质的气体外,还有一部分不通过源瓶而直接进人炉内,起稀释和控制浓度的作用,对某些杂质源还必须通人进行化学反应所需要的气体。在液态源扩散中,虽然也可以通过调节源温来改变杂质源的浓度,但为了保证稳定性和重复性,扩散时源温通常控制在0℃。液态的杂质源容易水解而变质,所以对携带气体要进行纯化和千燥处理。液态源的特点是不用配源,一次装源后可用较长的时问,且系统简单,操作方便,生产效率高,重复性和均匀性都较好。但它受温度、时间、流量、杂质源的液面大小及系统是否漏气等外界因素的影响较大,因此扩散过程中要求准确控制炉温、扩散时间、气体流量和源温等工艺参数,源瓶的密封性要好,扩散系统不能漏气。在这种情况下,重复性和稳定性一般还能满足要求,是目前使用较广泛的一种方法。