干涉条纹法 基本原理与比色法相同,采用的是单色光源和专门的干涉显微镜。测量前OX16PCI954-TQA1G ,首先把Si层通过48%氢氟酸腐蚀(将不需要腐蚀的⒊o2用真空封蜡保护起来)而制作出一个斜面,如图⒈29所示是在⒊O纟层h制作的斜面c然后把单色光(λ一定的光)垂直投射到斜面区域,对于透明膜,在斜面各处所对应的厚度不同,人射光从表面与从衬底反射出来的光束之间的光程差不同,因此产生相长干涉和相消千涉,这时在显微镜下即可观察到在斜面处有明暗相间的条纹,称为等厚干涉条纹(如图L130所示)。

   如果单色光波长为二氧化硅膜的折射率为″,则相应的膜厚J涨)为

式中,N为在显微镜下观察到的条纹数;″为二氧化硅膜的折射率。

一般从一个最亮条到相邻的一个最亮条(或最暗条到相邻的一个最暗条)就算一个干涉条纹,而从最暗条到相邻最亮条则可算为半个干涉条纹。如图130所示,N为3.5。较为常用的单色光源为钠光灯,波长为^=5993A≈0,6um9而″≈1.5,则每一条干涉条纹近似地相当于⒛00A的so2厚度。