分子束外延设各复杂,是一种高精密设备。随着技术的进步,MBE设各不断更新换代,出现了多种类型,MAX1711EEG但其主要都是由生长室、喷射炉、监控系统、衬底监挎系统 装填系统、真空系统、装片系统及控制系统组成。如热站  图⒊18所示是MBE系统主要组成部分。

   生长室也就是真空室,是外延生长场所,需要保持超高真空度。外延生长前的基压,从早前的10:Pa,到当前已接近10_n Pa,真空度不断提高。而外延生长时的I作气压约为101Pa。生长室一般由不锈钢材料制成,采用 图⒊18 MⅢ系统主要组成部分  金属密封接头和阀门,以减少漏气和控制进气速度。生长室的仝部元器件必须能承受约200℃的烘烤,以促进室内壁上吸附的水汽和氧的脱附。每当因维修而打开生长室使系统内表面暴露于大气环境之后,必须对生长室进行“烘烤”。通过“烘烤”或加热室壁,可以将大气带人的吸附水汽被真空泵有效地抽出。

   生长室内主要有衬底支架部分,喷射炉,监控系统也在生长室内。衬底支架部分用于放置衬底l并具有旋转、升温、控温等功能。衬底的旋转有利于喷射到衬底的外延分子(或原子)在衬底表面均匀分布;衬底保持一定温度对获得高质量外延层有益,因为喷射到具有一定温度的外延生κ表面的分子、原子能在衬底扩散,迁移到结点位置规则排列,降低外延层的缺陷密度。