SOI材料和功率器件衬底
发布时间:2008/5/28 0:00:00 访问次数:516
soi衬底材料用于制备高速、高抗辐射和低功耗器件和大规模集成电路（ic），与其它材料相比它具有速度高、抗辐射性强、功耗小等优点，应用于军事和航天等特殊领域，但是soi衬底材料制备困难，成本高[8]。目前，制备soi材料常用的技术有三种[9]：在蓝宝石衬底上的异质外延技术（sos）、氧离子注入隔离技术（smios）、硅-硅直接键合技术（sdb）。异质外延工艺是在与硅材料晶格结构相近的绝缘材料蓝宝石上面外延一层单晶硅。由于蓝宝石和硅的晶格结构的不完全相同导致硅外延层中缺陷密度高，在外延的界面处产生应力和位错，并且蓝宝石非常昂贵，难以大规模生产，只是应用于军事和航天等领域。
氧离子注入隔离技术（smios）是应用大型的离子注入设备把氧离子注入到硅片中，然后进行退火处理使硅与氧发生反应生成sio2
soi衬底材料用于制备高速、高抗辐射和低功耗器件和大规模集成电路（ic），与其它材料相比它具有速度高、抗辐射性强、功耗小等优点，应用于军事和航天等特殊领域，但是soi衬底材料制备困难，成本高[8]。目前，制备soi材料常用的技术有三种[9]：在蓝宝石衬底上的异质外延技术（sos）、氧离子注入隔离技术（smios）、硅-硅直接键合技术（sdb）。异质外延工艺是在与硅材料晶格结构相近的绝缘材料蓝宝石上面外延一层单晶硅。由于蓝宝石和硅的晶格结构的不完全相同导致硅外延层中缺陷密度高，在外延的界面处产生应力和位错，并且蓝宝石非常昂贵，难以大规模生产，只是应用于军事和航天等领域。
氧离子注入隔离技术（smios）是应用大型的离子注入设备把氧离子注入到硅片中，然后进行退火处理使硅与氧发生反应生成sio2
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