日前参与EDA技术论坛(EDA Tech Forum)的人士称，转向45纳米工艺节点将成本高昂，并且挑战重重，但对于某些应用而言却是值得的。

        由明导资讯(Mentor Graphics)公司CEO Wally Rhines主持的研讨会主题为“通向45纳米之路：朝向地狱吗？”。但会议的结论并非如此。尽管设计和制造成本不合理，与会嘉宾仍普遍对EDA和代工厂商迎头赶上拿出解决方案的能力以及设计公司通过IP复用使它们在45纳米技术的投资发挥杠杆作用表示乐观。

        Semico Research公司总裁Jim Feldhan表示，有一个潜在产品的“简短名单”将在最初几年需要45纳米技术，包括微处理器、高端图形、存储器和任何需要晶体管数量并能推动批量化的应用。但由于工厂成本也许达60亿美元，仅有少数几家公司能够兴建45纳米生产厂。

        到2012年左右，他表示，45纳米技术将足够成熟，并得到足够多的设计工具支持，以吸引更广泛的应用。

        Blaze DFM公司主席兼CTO Andrew Kahng认为，45纳米的设计挑战包括密度、泄漏及投资回报。另一大挑战是“老化的习惯如设计规则手册，或者SP&R(综合、布线和布局)提交给制造商。这些在65纳米确实表现出压力。”