显影检验
发布时间:2017/5/24 21:45:25 访问次数:599
在显影和烘焙之后就要完成光刻掩膜工艺的第一次质检,通常叫显影检验。检验的日HAT2256R-EL-E的是区分那些有很低可能性通过最终掩膜检验的衬底,提供工艺性能和T艺控制数据,以及分拣出需要重做的衬底。
一般要通过光学显微镜、扫描电子显微镜(SEM)或者激光系统来检查图形的尺寸是否满足要求。需要检测的内容包括:①掩模板选用是否正确;②光刻胶层的质量是否满足要求(光刻胶有没有污染、划痕、气泡和条纹等);③图形的质量(有好的边界.图形尺寸和线宽满足要求);④套准精度是否满足要求。如果不能满足要求,可以返I。因为经过显影之后只是在光刻胶上形成了图形,只需去掉光刻胶就可以重新进行上述各步工艺。
在显影和烘焙之后就要完成光刻掩膜工艺的第一次质检,通常叫显影检验。检验的日HAT2256R-EL-E的是区分那些有很低可能性通过最终掩膜检验的衬底,提供工艺性能和T艺控制数据,以及分拣出需要重做的衬底。
一般要通过光学显微镜、扫描电子显微镜(SEM)或者激光系统来检查图形的尺寸是否满足要求。需要检测的内容包括:①掩模板选用是否正确;②光刻胶层的质量是否满足要求(光刻胶有没有污染、划痕、气泡和条纹等);③图形的质量(有好的边界.图形尺寸和线宽满足要求);④套准精度是否满足要求。如果不能满足要求,可以返I。因为经过显影之后只是在光刻胶上形成了图形,只需去掉光刻胶就可以重新进行上述各步工艺。
上一篇：刻蚀
相关技术资料- 5-24显影检验
公网安备44030402000607
