保持气体从生产商到工艺工作台过程中不变的纯度是对晶圆制造厂的一个挑战。从生RT9164A-33PG产源开始，气体要通过管道系统、带有气阀与流量表的气柜，然后接入设备。这整个系统中的任何一部分的泄漏都是灾难性的。外部气体（特别是氧气）进入工艺气体参加化学反应，就改变了反应气体的成分，也改变了期望的化学反应。气体的污染还可以由系统本身散气而产生。一个典型的系统设有不锈钢管道与阀门，还有聚酯材质的部件，如接头与密封件。对于超级洁净系统，不锈钢表面还必须经过电子抛光和（或）用真空双层保护表面内部的熔接点以减少散气23。另一种技术就是在表面生长一层氧化铁膜，以进一步减少散气。这种技术一般称为氧气钝化( Oxygen Passivation，OP)．，要避免使用聚酯物质。气体柜的设计减少了可堆积污染的死角。另外洁净焊接工艺的使用也非常重要，杜绝了焊接气体被吸入气体管道．

   水气的控制也是非常重要的。水蒸气是一种气体，与其他污染气体一样，也会参与不需要的反应。在晶圆制造厂中加I晶圆时带有水气是个特别问题。当有氧气或水分存在时，硅很容易被氧化。所以控制不需要的水气对阻止硅表面的氧化是非常重要的。水气的上限一般是3～5 ppm。

   在气体中有微粒或金属离子会产生与化学溶剂污染相同的影响，气体最终会过滤至0.2¨m级，而金属离子也要被控制在百万分之一以下。

   由空气中分离的气体以液态形式存储于厂区里，在这种状态下，气体温度很低，而且这种状态可冷冻许多杂质并储存于罐底部。特殊气体是以高压瓶的形式采购来的。因为特殊气体大多是有毒或易燃的，所以一般储存在厂区外的特制气柜中。

   石英：晶圆有大量的工艺时间是在石英器中度过的，例如，晶圆固定器、反应炉石英管和传送器。石英件也是一种非常大的污染源，通常由散气与微粒的方式产生。即使是高纯度石英也含有许多重金属离子，这些离子可以从石英中散出进入扩散与氧化工艺反应的气流中，特别是在高温反应中。这些微粒来自晶圆与晶圆舟（wafer boat）的擦伤和晶圆舟与反应炉石英的摩擦（解决这个问题的方法将在第11章中讨论）．