干法刻蚀机的发展
发布时间:2017/11/1 19:49:09 访问次数:1008
如图8.2所示,过去35年干法刻蚀机发展的历史是以开发反应器结构和增强各种物理化学参数的控制功能为标志的。OA1530-32-OUTH 在等离子刻蚀I艺中,第一次提出平行板反应离子刻蚀(RIE)概念是1974年,而电感耦合等离子(ICP)概念的引入就要晚得多(1991~1995年)。在过去的15年中,电容耦合等离子(CCP/RIE)反应器和高密度等离子(HDP)反应器是IC
制造业的支柱。所有这些发展的趋势都遵循着器件尺寸持续缩小的制造需求。
如图8.2所示,过去35年干法刻蚀机发展的历史是以开发反应器结构和增强各种物理化学参数的控制功能为标志的。OA1530-32-OUTH 在等离子刻蚀I艺中,第一次提出平行板反应离子刻蚀(RIE)概念是1974年,而电感耦合等离子(ICP)概念的引入就要晚得多(1991~1995年)。在过去的15年中,电容耦合等离子(CCP/RIE)反应器和高密度等离子(HDP)反应器是IC
制造业的支柱。所有这些发展的趋势都遵循着器件尺寸持续缩小的制造需求。
相关技术资料- 11-1干法刻蚀机的发展
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