以铬版为例,掩模板的基本构造如图105所示,其材质依据不同的使用需求,可选择不同的玻璃基片。 A2003G目前随着工艺技术的精进,以具有低热膨胀系数、低钠含量、高化学稳定性及高光穿透性等特质的石英玻璃为主流,在其上镀有约100nm的不透光铬膜作为I作层及约20nm的氧化铬来减少光反射,增加工艺的稳定性。掩模板之所以可作为图形转移的一种模板,关键就在于有无铬膜的存在,有铬膜的地方,光线不能穿透,反之,则光可透过石英玻璃而照射在涂有光刻胶的晶片上,晶片再经过显影,就能产生不同的图形。也正是由于掩模板可用于大量的图形转移,所以掩模板上的缺陷密度将直接影响产品的优品率。如果假设缺'点的分布是随机的,则优品率的表达式为,DO为单位面积的缺点数;A为掩模板圆形面积;″为重要掩模板层数。

    掩模板上的缺陷一般来自两个方面:一是掩模板图形本身的缺陷,大致包括针孔、黑点、黑区突出、白区突出、边缘不均及刮伤等,此部分皆为制作过程中出现的,目前是利用目检或机器原形比等 方式来筛选;二是指附着在掩模板上的外来物,为解决此问题,通常在掩模板上装一层保护膜,当外来物掉落在保护膜上时,因保护膜上物体的聚焦平面与掩模板图形的聚焦平面不同,因此可使小的外来 物不能聚焦在晶片上,而不产生影响,如图106所示是掩模板保护膜功能示意图。