溅射率与入射离子种类的关系,总的来说是随着离子质量增加而增大的。图⒏⒛所示是溅射率与轰击离子的原子序数的关系曲线。 L78L08ACD13TR由曲线可知,对于填满或接近填满价电子壳层的轰击离子,溅射率大。惰性气体离子,如Ar、Kr和Xe有较大的溅射率。在溅射工艺中通常选Ar为工作气体,另一个原囚是惰性气体离子可以避免与靶材起化学反应。

    图⒏20 溅射率与轰击离子的原子序数的关系曲线(能量为45keV)入射离子在轰击靶时的人射角对溅射率也有影响。人射角是指离子入射方向与靶表面法线之间的夹角。在低离子能量情况下,随着人射角的增加,溅射率以V∞弱规律增加,即倾斜人射有利于提高溅射率,当入射角接近80°时,溅射率迅速下降。溅射率对人射角的依赖性与靶材也密切相关。如金、铂和铜等高溅射率的靶材一般与人射角关系不大,而Ta和Mo等低溅射率的靶材与人射角有明显关系。