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提高集成密度和提高的电路速度一直是人们所追求的目标和面临的挑战

发布时间:2017/4/29 12:43:30 访问次数:510

    增强可靠性,提高集成ADC08D1010DIYB+密度和提高的电路速度一直是人们所追求的目标和面临的挑战.混合型电路更是看重可靠性。速度和集成度的提高来源于免去了对单个芯片的封装工序。整个连接链条中环节的减少降低了电阻(在某些情况下),缩短了信息必须运行的路径,提高了速度.这种策略称为裸芯片策略( bare die strategy),用于混合型、多芯片的模块以及板卜芯片技术,裸芯片最直接的应用是将它们直接压焊在印制电路板上。压焊技术包括将芯片压焊到管壳上:使用的所有技术。连接到板上以后,用顶部滴胶保护法( blob-top protection)保护芯片。用环氧树脂材料覆盖芯片和压点的方法实现这种保护3D封装(3D package):在一个封装体内堆叠和连接丽个以七芯片。

   川-V族半导体材料(…-V semiconductor material):由元素周期表的第III和第V族元素组成的半导体材料,II-VI族半导体材料(II-VI semiconductor material):由元素周期表的第1I和第VI族元素组成的半导体材料。

   受主( acceptor):一种半导体材料中的杂质。接受价带电子,从而在价带中留下“空穴”的行为就像JE电性的载流子,亦称P型载流子。

   空气传播的分子污染( airborne molecular contamination):在净化间空气中存在的空气传播的分f污染

   光刻机(对准和曝光)[ aligner( align and expose)]:-种工艺设备,用来将晶圆和掩模版或放大掩模版对准,并使光刻胶在紫外线或其他辐射源下曝光。

   对准( alignment):参见掩模版或放大掩模版相对于晶圆的定位。

   对准标记( alignment mark):在晶圆和掩模版七用来正确对准的目标。合金( alloy):(1)两种金属的合成物;(2)在半导体工艺中,合金化步骤引起半导体材料和在 其f:的材料的柏互扩散,形成两者间的欧姆接触。铝(Al):半导体工艺中使用最多的金属。用来形成芯片E的各器件之间的连接。可以通过蒸发或溅射I:艺制备.非晶体( amorphous):原子旱无序排列的材料,如塑料。




    增强可靠性,提高集成ADC08D1010DIYB+密度和提高的电路速度一直是人们所追求的目标和面临的挑战.混合型电路更是看重可靠性。速度和集成度的提高来源于免去了对单个芯片的封装工序。整个连接链条中环节的减少降低了电阻(在某些情况下),缩短了信息必须运行的路径,提高了速度.这种策略称为裸芯片策略( bare die strategy),用于混合型、多芯片的模块以及板卜芯片技术,裸芯片最直接的应用是将它们直接压焊在印制电路板上。压焊技术包括将芯片压焊到管壳上:使用的所有技术。连接到板上以后,用顶部滴胶保护法( blob-top protection)保护芯片。用环氧树脂材料覆盖芯片和压点的方法实现这种保护3D封装(3D package):在一个封装体内堆叠和连接丽个以七芯片。

   川-V族半导体材料(…-V semiconductor material):由元素周期表的第III和第V族元素组成的半导体材料,II-VI族半导体材料(II-VI semiconductor material):由元素周期表的第1I和第VI族元素组成的半导体材料。

   受主( acceptor):一种半导体材料中的杂质。接受价带电子,从而在价带中留下“空穴”的行为就像JE电性的载流子,亦称P型载流子。

   空气传播的分子污染( airborne molecular contamination):在净化间空气中存在的空气传播的分f污染

   光刻机(对准和曝光)[ aligner( align and expose)]:-种工艺设备,用来将晶圆和掩模版或放大掩模版对准,并使光刻胶在紫外线或其他辐射源下曝光。

   对准( alignment):参见掩模版或放大掩模版相对于晶圆的定位。

   对准标记( alignment mark):在晶圆和掩模版七用来正确对准的目标。合金( alloy):(1)两种金属的合成物;(2)在半导体工艺中,合金化步骤引起半导体材料和在 其f:的材料的柏互扩散,形成两者间的欧姆接触。铝(Al):半导体工艺中使用最多的金属。用来形成芯片E的各器件之间的连接。可以通过蒸发或溅射I:艺制备.非晶体( amorphous):原子旱无序排列的材料,如塑料。




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