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高斯电子束曝光系统

发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:482

[简介]: 电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段，在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色。

高斯电子束曝光系统

杨清华，刘明，陈大鹏，叶甜春

(中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术重点实验室，北京 100029）

摘 要：电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段，在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色。虽然现在最先进的电子束聚焦技术可以得到几个纳米的电子束斑

[简介]: 电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段，在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色。

高斯电子束曝光系统

杨清华，刘明，陈大鹏，叶甜春

(中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术重点实验室，北京 100029）

摘 要：电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段，在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色。虽然现在最先进的电子束聚焦技术可以得到几个纳米的电子束斑

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