lithography
发布时间:2008/6/3 0:00:00 访问次数:348
lithography是一种平板印刷技术，在平面光波回路的制作中一直发挥着重要的作用。具体过程如下：
首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；
使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在光刻胶层上形成固化的与掩模板完全对应的几何图形；
对光刻胶上图形显影，与掩模对应的光刻胶图形可以使芯层材料抵抗刻蚀过程；
使用等离子交互技术，将二氧化硅刻蚀成与光刻胶图形对应的芯层形状；
光刻胶层剥离；
最后在已经形成的芯层图形上面淀积上包层。
使用lithography方法几乎可以在芯层材料上形成各种几何图形，图形的精细度取决于曝光系统的光源波长，现有uv、duv、e-beam、x-ray、nano-imprint几种曝光方式。
首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；
使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在光刻胶层上形成固化的与掩模板完全对应的几何图形；
对光刻胶上图形显影，与掩模对应的光刻胶图形可以使芯层材料抵抗刻蚀过程；
使用等离子交互技术，将二氧化硅刻蚀成与光刻胶图形对应的芯层形状；
光刻胶层剥离；
最后在已经形成的芯层图形上面淀积上包层。
使用lithography方法几乎可以在芯层材料上形成各种几何图形，图形的精细度取决于曝光系统的光源波长，现有uv、duv、e-beam、x-ray、nano-imprint几种曝光方式。
lithography是一种平板印刷技术，在平面光波回路的制作中一直发挥着重要的作用。具体过程如下：
首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；
使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在光刻胶层上形成固化的与掩模板完全对应的几何图形；
对光刻胶上图形显影，与掩模对应的光刻胶图形可以使芯层材料抵抗刻蚀过程；
使用等离子交互技术，将二氧化硅刻蚀成与光刻胶图形对应的芯层形状；
光刻胶层剥离；
最后在已经形成的芯层图形上面淀积上包层。
使用lithography方法几乎可以在芯层材料上形成各种几何图形，图形的精细度取决于曝光系统的光源波长，现有uv、duv、e-beam、x-ray、nano-imprint几种曝光方式。
首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；
使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在光刻胶层上形成固化的与掩模板完全对应的几何图形；
对光刻胶上图形显影，与掩模对应的光刻胶图形可以使芯层材料抵抗刻蚀过程；
使用等离子交互技术，将二氧化硅刻蚀成与光刻胶图形对应的芯层形状；
光刻胶层剥离；
最后在已经形成的芯层图形上面淀积上包层。
使用lithography方法几乎可以在芯层材料上形成各种几何图形，图形的精细度取决于曝光系统的光源波长，现有uv、duv、e-beam、x-ray、nano-imprint几种曝光方式。
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