20nm垂直MRAM磁穿隧接面晶圆上生产出更多FLASH颗粒
发布时间:2022/2/2 20:14:09 访问次数:193
MRAM已经在通信、军事、数码产品上有了一定的应用。2008年,日本的卫星系统就宣布使用了飞思卡尔的MRAM来替换其所有的闪存元件。
2018年的国际电子器件会议(IEDM)上,英特尔展示了嵌入式MRAM在逻辑芯片制造中的新技术。
嵌入式 MRAM可在200℃下保持10年的记忆期,称之为“首款基于FinFET的MRAM技术”。2019年,英特尔宣布其MRAM已经做好了量产准备,使用22nm FFL FinFET技艺,同年Everspin也宣布旗下的1G MRAM存储芯片进入试生产阶段。
12bit ECC具有显著的优势:
整机成本比市面其他方案节省3美金以上;
容错能力强,FLASH的使用寿命更长;同时,需要12bit ECC技术支持的FLASH,均采用3x纳米的工艺研发而成,在同样面积的晶圆上能生产出更多的FLASH颗粒,所以每颗FLASH的成本相对降低。
兼容8bit ECC的功能;
替代更方便。
这两方面大数据信息流最终通过互联网在智能设备之间传递,由智能设备进行分析、判断、决策、调整、控制并继续开展智能生产,生产出高品质的个性化产品。
也是在这一年,总部位于波士顿的公司Allied Minds正式成立了STT公司,以这项技术命名,该公司开始营运。2016年9月,STT开发出OST-MRAM技术并在加利福尼亚州总部的晶圆厂制作出20nm的垂直 MRAM 磁穿隧接面(pMTJ)。
这两款DSP不足340μW待机功耗与不足0.3mW/MHz的工作功耗,可将电池使用寿命延长超过40%。
(素材来源:转载自网络,如涉版权请联系删除,特别感谢)
MRAM已经在通信、军事、数码产品上有了一定的应用。2008年,日本的卫星系统就宣布使用了飞思卡尔的MRAM来替换其所有的闪存元件。
2018年的国际电子器件会议(IEDM)上,英特尔展示了嵌入式MRAM在逻辑芯片制造中的新技术。
嵌入式 MRAM可在200℃下保持10年的记忆期,称之为“首款基于FinFET的MRAM技术”。2019年,英特尔宣布其MRAM已经做好了量产准备,使用22nm FFL FinFET技艺,同年Everspin也宣布旗下的1G MRAM存储芯片进入试生产阶段。
12bit ECC具有显著的优势:
整机成本比市面其他方案节省3美金以上;
容错能力强,FLASH的使用寿命更长;同时,需要12bit ECC技术支持的FLASH,均采用3x纳米的工艺研发而成,在同样面积的晶圆上能生产出更多的FLASH颗粒,所以每颗FLASH的成本相对降低。
兼容8bit ECC的功能;
替代更方便。
这两方面大数据信息流最终通过互联网在智能设备之间传递,由智能设备进行分析、判断、决策、调整、控制并继续开展智能生产,生产出高品质的个性化产品。
也是在这一年,总部位于波士顿的公司Allied Minds正式成立了STT公司,以这项技术命名,该公司开始营运。2016年9月,STT开发出OST-MRAM技术并在加利福尼亚州总部的晶圆厂制作出20nm的垂直 MRAM 磁穿隧接面(pMTJ)。
这两款DSP不足340μW待机功耗与不足0.3mW/MHz的工作功耗,可将电池使用寿命延长超过40%。
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