位置:51电子网 » 技术资料 » 新品发布

三菱电机推出新型低k半导体材料

发布时间:2007/9/4 0:00:00 访问次数:235

     三菱电机(Mitsubishi Electric)日前宣布,该公司已经开发出一种绝缘材料,据称与现有材料相比,具有更低的介电常数,且鲁棒性(robustness)有很大提高。三菱电机表示,这种材料的鲁棒性作与当前的绝缘体材料几乎完全相同,和当前的低k材料相比鲁棒性要高大约6倍。

  The International Technology Roadmap for Semiconductors(IRTS)在2003年路线图中着重强调,来自化学机械的损坏在相当大程度上阻碍了使用低k材料。三菱公司使用了一种以borazine为基础的混合材料,borazine材料提供2.3的介电常数,而鲁棒性与当前用来做绝缘层的硅氧化合物材料类似。

  borazine混合材料的结构类似于苯(benzene),但在化学分子结构中用氮(nitrogen)和硼(boron)代替了碳(carbon)。Borazine与水和氧会进行反应,因而不适用于沉积工艺过程。通过替利用碳分子替换围绕在borazine环周围的氢,三菱研究人员表示说他们获得了一种稳定的材料。

     三菱电机(Mitsubishi Electric)日前宣布,该公司已经开发出一种绝缘材料,据称与现有材料相比,具有更低的介电常数,且鲁棒性(robustness)有很大提高。三菱电机表示,这种材料的鲁棒性作与当前的绝缘体材料几乎完全相同,和当前的低k材料相比鲁棒性要高大约6倍。

  The International Technology Roadmap for Semiconductors(IRTS)在2003年路线图中着重强调,来自化学机械的损坏在相当大程度上阻碍了使用低k材料。三菱公司使用了一种以borazine为基础的混合材料,borazine材料提供2.3的介电常数,而鲁棒性与当前用来做绝缘层的硅氧化合物材料类似。

  borazine混合材料的结构类似于苯(benzene),但在化学分子结构中用氮(nitrogen)和硼(boron)代替了碳(carbon)。Borazine与水和氧会进行反应,因而不适用于沉积工艺过程。通过替利用碳分子替换围绕在borazine环周围的氢,三菱研究人员表示说他们获得了一种稳定的材料。

相关IC型号

热门点击

 

推荐技术资料

自制智能型ICL7135
    表头使ff11CL7135作为ADC,ICL7135是... [详细]
版权所有:51dzw.COM
深圳服务热线:13751165337  13692101218
粤ICP备09112631号-6(miitbeian.gov.cn)
公网安备44030402000607
深圳市碧威特网络技术有限公司
付款方式


 复制成功!